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集成电路作为电子产品中的核心部件，其质量的好坏直接决定了到电子整机产品的性能和可靠性的高低。在集成电路的制备过程中，其表面粘附的颗粒、有机物、金属等污染物严重影响器件的性能。随着集成电路板中单元图案的日益微型化以及集成度的日益提高，对器件的性能、可靠性、良品率、使用寿命等的要求越来越高。因此，在集成电路制造过程中的硅氧化、光刻、外延、扩散和引线蒸发等诸多工序前，均会采用物理或化学的方法去除硅片表面的污染物和自身氧化物，以得到符合清洁度要求的硅片，但由此也产生了大量的废水。
如果集成电路废水处理不得当或者不处理直接排放，将会对环境以及水生物造成不可估量的危害，大量的水直接排放也降低了水资源利用率。对集成电路废水进行废水回用从经济效益、环保效益和社会效益上来讲都是可行的。
莱特莱德的集成电路清洗废水回用系统工艺合理，运行持久稳定，经济效益明显，环境风险性能可控，整体布局高度集成，美观大方。Neterfo极限分离系统是莱特莱德为“三高废水”研发的一套膜法深度处理回用系统。系统搭载了错流PON耐污染技术、POM宽流道高架桥旁路技术等多项技术，实现了高回收率的处理效果，突破传统回用水系统50%回收率瓶颈，综合回收率可达90%以上，以处理量100m3/h系统为例，Neterfo极限分离系统每年可节约近32万吨水。
随着集成电路清洗废水回用技术的不断进步，以及我国对集成电路的需求不断增加，集成电路废水的有效回用符合我国目前的节水环保理念。Neterfo极限分离系统简单的模块化设计使其运行更加灵活，能够实现集成电路废水的回用。
